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制藥純水設(shè)備嚴(yán)格要求不放水

更新時(shí)間:2015-04-21點(diǎn)擊次數(shù):1996
  純化水為采用蒸餾法、離子交換法、反滲透法或其他適宜的方法制得供藥用的水."而不再僅局限于"蒸餾"這一種工藝.藥典這一改變是我國制藥用水生產(chǎn)發(fā)展*的一大進(jìn)步,與*國家的藥典實(shí)現(xiàn)了接軌.藥典將注射用水規(guī)定為"純化水經(jīng)蒸餾所得的水".而USP已連續(xù)在7個(gè)版本中明確規(guī)定反滲透(reverse osmosis,RO)法可以作為制取注射用水的法定方法,顯示了人們對(duì)采用膜技術(shù)生產(chǎn)制藥用水的信心.膜分離法生產(chǎn)制藥用水是制藥用水技術(shù)發(fā)展的必然趨勢(shì).
  醫(yī)藥用純水對(duì)水質(zhì)要求相對(duì)來說更加嚴(yán)格,更加高.常要求超純水的電阻值應(yīng)高于15兆以上.為保證醫(yī)藥用超純水的用水安全,超純水的處理設(shè)備整個(gè)系統(tǒng)也都由全不銹鋼材質(zhì)組合而成,而且在用水點(diǎn)之前都必須裝備殺菌裝置.我公司從整個(gè)醫(yī)藥行業(yè)用超純水的特點(diǎn)出發(fā),針對(duì)不同用戶對(duì)高純水的不同要求,采用反滲透,EDI等工藝,比較有針對(duì)性地設(shè)計(jì)出成套高純水處理工藝,以滿足藥廠、醫(yī)院的純化水制取、大輸液制取的用水要求.
  
  制藥純水設(shè)備的應(yīng)用范圍:
  1、半導(dǎo)體、單晶硅、集成電路、超大規(guī)模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學(xué)、光電類器件,各種電子器件,微電子工業(yè)、IC 芯片封裝行業(yè),太陽能硅片清洗、LCD 清洗等2、醫(yī)藥行業(yè)用水,生物、生化實(shí)驗(yàn)室用水,制藥行業(yè),無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水,醫(yī)院血液透析;用水、生化分析用水、輸液醫(yī)藥用水等;
  3、熱電廠用水處理、冶金工業(yè)用水處理、航天工業(yè)、汽車工業(yè)等;
  4、制取熱力、火力、渦輪發(fā)電鍋爐用水,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水等.
  制藥純水設(shè)備專業(yè)生產(chǎn)高純水設(shè)備,高純水處理設(shè)備,高純水設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水裝置,去離子超純水設(shè)備,反滲透超純水設(shè)備,工業(yè)超純水設(shè)備,小型超純水設(shè)備,大型超純水設(shè)備并且出水水質(zhì)符合純化水標(biāo)準(zhǔn)、符合GMP標(biāo)準(zhǔn)、美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)等,電阻率均可達(dá)到1-18兆,適合用于各個(gè)行業(yè),現(xiàn)貨供應(yīng),!
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